图4 MgB2薄膜的R-T曲线,插图为转变温度附近的放大图
图5为由150nm厚MgB2薄膜样品磁滞回线测量所得到的5K,15K,25K下薄膜的临界电流密度JC-H曲线,它是由插图所示外场平行于膜面时不同温度下的磁滞回线,利用Bean模型 [28]估算得到的论文服务。其中 是磁滞回线的宽度, V为薄膜的体积,a和b为垂直于外场方向样品的尺寸。5 K, 15 K, 25K下JC(0)的值分别为2.8×106 A/cm2 ,3.2×106 A/cm2和1.7×106 A/cm2。文献 [29]研究表明对于MgB2块材样品,制备时存在10%过量Mg,块材的临界电流密度会增大混合物理化学气相沉积法,这与本实验中制备时过量Mg对MgB2超导薄膜的物性影响是不同的。对于已知的SiC衬底MgB2超导薄膜样品,临界电流密度JC(5K,0T)高达2.3×108A/cm2[15],本样品的临界电流密度相对降低一些,可能是由于样品中存在Mg杂质,磁测量中JC受边缘效应的影响较大。另一方面,从插图中的磁滞回线可见,样品在低温低场端有一定的“磁通跳跃”[30-31]。这表明MgB2薄膜样品散射中心比较多,同样与样品中存在Mg杂质有关。不同Mg含量对MgB2薄膜临界电流密度的影响正在进一步研究之中。

图5 5K,15K,25K下薄膜的临界电流曲线,插图为三种温度下的M-H曲线
上临界场Hc2的大小对于超导体在强电领域的潜在应用非常重要[32]。我们在0.5到7 T的不同磁场下测量了MgB2薄膜样品的ρ-T曲线,如图6所示。上临界场是利用不同外场下的电阻率温度曲线由“电阻率90%”的判据确定的。估算的0 K时的Hc2约为19.5 T。这可能是因为晶粒间的杂质Mg扮演了钉扎中心的角色,导致Hc2 (0)较高。

图6 MgB2薄膜上临界场与温度的关系
结论
通过混合物理化学气相沉积法,我们在SiC衬底上制备出了c轴取向的均匀的高致密性的MgB2超导薄膜。样品具有高的超导临界转变温度,达到了40.4K。样品测量得到了陡峭的M-T曲线,这可能与薄膜中的Mg杂质有关。薄膜的临界电流密度为J C(5K,0T)=2.7×106A/cm2, 上临界场Hc2 (0)高达19.5K。不同Mg含量的MgB2超导薄膜的具体研究正在进行中,这一工作对于将来MgB2的超导应用方面具有重要的意义。
致谢
感谢王亚洲,陈伟孟,沈冰在物性分析和测量中给予的帮助。
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