2.4匀胶机最高转速及样品的涂膜层数
我们用匀胶机旋涂的方法制备Bi-2212超导厚膜,所采用的匀胶机实验系统如图4所示。
图4 实验室所用的匀胶机实验系统
匀胶机托盘中间留有半径lmm的孔,与真空泵相连接,将真空泵打开,真空泵提供的吸附力使样品与托盘保持紧密结合。旋涂法过程可分三步:滴液、加速旋转、旋离蒸发[10]。
不同的涂膜层数会影响所制备超导厚膜的厚度,不同的匀胶机转速也会影响涂膜的厚度及膜表面的均匀程度。这些因素会影响烧制出超导厚膜的内部结构、形貌,进而影响厚膜的超导电性杂志网。我们针对不同的匀胶机转速、涂膜层数做了系统的实验。
为了找到最佳的匀胶机转速和最佳的涂膜层数,我们以制备超导膜的超导转变温度Tc为依据,做了一系列比较实验,每次实验只改变转速或涂膜层数其中一个条件,其他条件都一样。样品3-1、3-2、2-2、2-3、4-1、4-2的实验条件和平均超导转变温度如表2所示。其中样品3-1、3-2、2-2、2-3测试的R-T曲线如图5(a)所示,样品4-1、4-2测试的R-T曲线如图5(b)所示。
表2 两组样品的实验条件和平均Tconset
样品 涂膜条件 平均转变温度
3-1,3-2 涂膜层数5层,匀胶机转速3500r/min 91.39K
2-2,2-3 涂膜层数5层,匀胶机转速2000r/min 82.28K
4-1 涂膜层数6层,匀胶机转速3500r/min 90.47K
4-2 涂膜层数5层,匀胶机转速3500r/min 80.41K
(a) (b)
图5 (a)样品3-1、3-2、2-2、2-3的R-T曲线,(b)样品4-1、4-2的R-T曲线
从实验结果的变化趋势来看烧结温度,适当的增加匀胶机转速和涂膜层数,样品的超导转变温度都呈现出逐步提高的趋势。图6(a)和图6(b)分别是2-2与3-2样品的XRD图谱。反应了适当的增加匀胶机转速,可以较为明显减少第二相。
(a)(b)
图6 (a)样品2-2的XRD图谱,(b)样品3-2的XRD图谱
基于之上所有制膜工艺最优化的基础上,将转速提高到4000r/min,涂膜层数增加为七层,进行了涂膜实验。测试样品的R-T曲线,发现样品的第二个相转变点消失了。制备出了高质量、高Tc的Bi-2212超导厚膜,超导膜的R-T转变曲线如图7所示。
图7工艺优化后制备出Bi-2212超导厚膜的R-T曲线
3、结语
本文详细的分析了化学溶液法制备Bi-2212超导厚膜的过程,包括溶液配置、旋涂法涂膜中的匀胶机转速及涂膜层数、热处理工艺等。这些步骤对制备高质量、高Tc的Bi-2212超导膜都是至关重要的。通过系统的实验,得到最佳的烧结温度和固相温度分别是888℃、845℃,通过提高匀胶机转速和涂膜厚度,可以提高Bi-2212的超导转变温度,通过最终优化涂膜条件,制备出了高质量单相的Bi-2212超导厚膜。
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